MoneyDJ新聞 2025-09-05 11:09:33 新聞中心 發佈
綜合陸媒報導，中微公司(688012.SH)宣布推出六款半導體設備新產品，涵蓋等離子體刻蝕、原子層沉積及外延等技術，包括兩款刻蝕設備和四款薄膜沉積設備，為其高端設備平台化轉型加速注入新動能。其中，在刻蝕技術方面，中微公司此次發布的兩款新品分別在極高深寬比刻蝕及金屬刻蝕領域為客戶提供了領先和高效的解決方案。
在刻蝕設備方面，CCP電容性高能等離子體刻蝕機Primo UD-RIE，基於成熟的Primo HD-RIE設計架構並全面升級，配備六個單反應台反應腔，通過更低頻率、更大功率的射頻偏壓電源，提供更高離子轟擊能量，可滿足極高深寬比刻蝕的嚴苛要求，兼顧刻蝕精度與生產效率。另一款Primo Menova 12吋ICP單腔刻蝕設備專注於金屬刻蝕領域，擅長金屬Al線、Al塊刻蝕，廣泛適用於功率半導體、存儲器件及先進邏輯芯片製造，是晶圓廠金屬化工藝的核心設備。
在薄膜沉積設備方面，中微公司此次發布的四款新品，包括三款原子層沉積產品以及一款外延產品。其中，推出的12吋原子層沉積產品Preforma Uniflash金屬柵系列，涵蓋Preforma Uniflash TiN、Preforma Uniflash TiAl及Preforma Uniflash TaN三大產品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應用需求。
外延設備方面，中微公司推出的雙腔減壓外延設備PRIMIO Epita RP，作為目前市場上獨有的雙腔設計外延減壓設備，其反應腔體積為全球最小，且可靈活配置多至6個反應腔，在顯著降低生產成本與化學品消耗的同時，實現了高生產效率。
中微表示，隨半導體技術升級，刻蝕、沉積及外延等技術的應用需求持續成長。此次新品發布可進一步滿足客戶需求，拓展公司產品布局，為加速向高端設備平台化公司轉型注入新動能，對公司未來半導體設備市場拓展和業績成長性預計都將產生積極的影響。另據財報顯示，今年上半年，中微公司營收達49.61億元(人民幣,下同)、年增43.88%；歸屬母公司淨利潤7.06億元、年增36.62%。
